ГЛАВА 3. Физико-химические основы процессов взаимодействия активных частиц плазмы с поверхностью

1. Классификация процессов взаимодействия активных частиц плазмы с поверхностью
2. Физика процессов распыления материалов при ионной бомбардировке
3. Гетерогенные химические реакции в условиях ННГП:основные понятия и подходы к анализу
4. Кинетика взаимодействия ХАЧ с поверхностью
5. Взаимосвязь объемных параметров плазмы и кинетики процессов на поверхности
6. Закономерности и особенности взаимодействия плазмы галогенсодержащих газов с металлами и полупроводниками

Контрольные вопросы

• Физико-химические основы процессов взаимодействия активных частиц плазмы с поверхностью. Тест 1
• Физико-химические основы процессов взаимодействия активных частиц плазмы с поверхностью. Тест 2